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Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A避免光路偏移
Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A避免光路偏移
?元件表面采用研磨（geschliffen）加工，表面粗糙度Rq 2µm，可滿足高精度拋光前的基礎表面要求，同時在無需超高光滑表面的紫外窗口、激光傳輸元件中可直接使用。研磨表面具備均勻的微觀結構，無劃痕、無凹坑、無破損，可保證光學性能穩定；
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更新日期
2026-08-31
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Hellma氟化鈣CaF?單晶光學圓片技術參數
Hellma氟化鈣CaF?單晶光學圓片技術參數
Hellma作為*精密光學元件、光譜分析耗材龍頭制造商，依托成熟的晶體生長、精密光學加工與標準化質控體系，大量生產氟化鈣單晶光學元件，廣泛應用于真空紫外、深紫外光譜分析、紅外光譜檢測、光學窗口、激光系統、氣體分析儀器等領域。本次介紹的CaF?單晶光學圓片，嚴格遵循HMAT企業材料標準，采用(111)晶向氟化鈣單晶制造，目標適用波長248nm，外形規
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更新日期
2026-07-28
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廠商性質
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Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A高純度原料
Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A高純度原料
LD-A高等級質量控制，低缺陷、高激光損傷閾值
Hellma LD-A是氟化鈣材料中的高等級光學品，代表極低缺陷密度、高純度、高結構完整性。材料生產過程中采用超高純度原材料、真空單晶生長工藝、長時間高溫退火、精密應力消除、缺陷檢測篩選等全流程質量控制，將內部氣泡、夾雜、位錯、孿晶、散射點等缺陷控制在檢測極限以下。
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更新日期
2026-04-24
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Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?用于航空航天
Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?用于航空航天
航空航天行業：深紫外星載光學系統棱鏡
應用場景：某航天院所的星載深紫外光譜儀，用于探測大氣層中的臭氧、氣溶膠等成分，工作環境為太空溫度（-80℃~+120℃）、高真空、強輻射，要求棱鏡具備超高的溫度穩定性與抗輻射性能。
應用方案：選用Hellma LD-A-級CaF?（193nm）制備光譜儀的色散棱鏡，晶體經深冷退火處理，溫度穩定性優化；表面
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更新日期
2026-02-09
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